Auto500是一套多功能的真空镀膜系统平台，主要用于科学研究、技术开发或试生产。其真空腔室采用了前开门的箱式设计，可以容纳大尺寸样品。通过可选择的设备配置能分别实现热阻蒸发、电子束蒸发及磁控溅射等各种物***相沉积工艺，甚至也可以将前面三种镀膜工艺同时组合在一台设备里。
 
真空腔室安放在内部装载有真空泵系统的基座上。系统的真空系统由触摸屏操作显示的PLC自动控制。PLC显示操作面板以及其他工艺附件的控制面板都集中安装在真空腔室旁边的19”标准控制机柜上，操作十分方便。
 
Auto500既可以只配置单个镀膜源，也可以配置成多个不同的镀膜源，其工艺配置灵活性非常高，并且也很容易进行现场升级。
 
Auto500还可以配置一系列样品承载台，可实现样品旋转、倾斜、加热、冷却、偏压等。
 
真空系统可选无油干泵、分子泵及低温冷凝泵等。

设备特点：

• 可配置大容积的真空腔室FL500（宽度/直径500mm×高度500mm）

• 方便的前开门式腔室操作

• 腔室上留有备用工艺孔，可升级安装残余气体，分析仪以及其他的工艺监测仪器

• 高真空泵可选：分子泵、低温泵、油扩散泵

• 基于PLC的全自动真空控制 ，触摸屏显示和操作

• 智能软开启的高真空阀门

• ***的工艺选件，用于热阻蒸发、电子束蒸发及RF/DC溅射

• 材料研究

• 半导体器件

• 光学薄膜

• 纳米技术

• 介质膜

• 有机物膜、聚合物膜及OLED

• 光子学研究

• 化合物半导体

• 太阳能电池

CD母盘金属化

镀膜工艺实现能力

FL500腔室内部：EB3电子束蒸发源和两个直径75mm的磁控溅射源

FL500腔室内部：安装在腔室中央的6KW功率的电子束蒸发源